Другие журналы

Аверьянихин Артур Евгеньевич

77-48211/368736 Исследование критических параметров для технологии двойного фотошаблона
Инженерный вестник # 05, май 2012
В статье описываются алгоритмы трансформации топологии субмикронных СБИС, ориентированные на применение для некоторых классов сложно-функциональных блоков, проектируемых для последующего производства по технологии двойного фотошаблона и удовлетворяющих условиям воспроизведения заданной топологии по технологии двойного фотошаблона.
77-30569/249897 Алгоритм преобразования топологии субмикронных СБИС
Инженерное образование # 11, ноябрь 2011
В статье рассматриваются подходы к решению задачи трансформации топологии субмикронных СБИС для технологии двойного фотошаблона. Для каждого элемента топологии выделен определенный класс с множеством элементарных методов. Обработка элементов заключается в их последовательном переборе, анализе расстояний между контурами геометрических примитивов на предмет удовлетворения заданному критерию. Если расстояние между контурами геометрических примитивов не удовлетворяет заданному критерию, производится разделение анализируемых примитивов на два различных слоя топологии. Рассмотрен алгоритм раскраски графа для проведения анализа топологии на предмет возможности трансформации для технологии двойного фотошаблона.
 
ПОИСК
 
elibrary crossref neicon rusycon
 
ЮБИЛЕИ
ФОТОРЕПОРТАЖИ
 
СОБЫТИЯ
 
НОВОСТНАЯ ЛЕНТА



Авторы
Пресс-релизы
Библиотека
Конференции
Выставки
О проекте
Rambler's Top100
Телефон: +7 (499) 263-69-71
  RSS
© 2003-2017 «Инженерный вестник» Тел.: +7 (499) 263-69-71